一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置
授权
摘要
本实用新型涉及污水处理技术领域，尤其是一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置，包括集水槽，集水槽的底壁上至少开设有一个抗浮孔，抗浮孔的上方设置有与集水槽的侧壁固定连接的定位板，定位板上设有通孔，通孔内间隙配合设置有固定杆，固定杆上贯穿设置有密封垫，密封垫上端设置有压板，固定杆贯穿压板，压板与密封垫通过紧固机构固定，压板和定位板之间抵接有弹簧，弹簧套设在固定杆上，密封垫位于抗浮孔的正上方，密封垫的直径大于抗浮孔的直径。本实用新型通过固定杆、密封垫、弹簧、紧固机构、压板的共同作用，可以根据集水槽内外液位差的变化控制抗浮孔的开启和闭合，改善了出水质量。
基本信息
专利标题 ：
一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020594936.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN212050673U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
蒋雨辰王陆军
申请人 ：
北京沃尔德斯水务科技有限公司
申请人地址 ：
北京市门头沟区雅安路6号院1号楼A座6层
代理机构 ：
北京绘聚高科知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗硕
优先权 ：
CN202020594936.2
主分类号 ：
C02F1/48
IPC分类号 ：
C02F1/48 C02F1/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/48
用磁场或电场的
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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