一种偏硅酸钠滚筒干燥器
授权
摘要

本实用新型公开了一种偏硅酸钠滚筒干燥器,包括滚筒本体,滚筒本体滚动安装于滚筒支架上,滚筒本体的下端设置有辅助承托支架,辅助承托支架包括底安装板和横调节板,底安装板通过安装螺栓固定安装于滚筒支架的底部支架上,承托板的上端贴合在垫板的下端,可调斜支撑板远离铰接轴的一端均安装有辅助转动辊,辅助转动辊的外侧设置有树脂外层;该偏硅酸钠滚筒干燥器,通过在滚筒干燥器的滚筒下方设置辅助承托支架,该辅助承托支架可以调节两个辅助转动辊之间的距离,可通过液压缸调节辅助转动辊的高度,以便对于不同直径的滚筒使用,可调节性高,适用范围广,而且对于承托滚筒更加的稳定,实用性强。

基本信息
专利标题 :
一种偏硅酸钠滚筒干燥器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020611210.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-22
授权号 :
CN212274468U
授权日 :
2021-01-01
发明人 :
彭盛强
申请人 :
高安市环瓷达釉料有限公司
申请人地址 :
江西省宜春市高安市新街镇(江西省建筑陶瓷产业基地)
代理机构 :
南昌贤达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
金一娴
优先权 :
CN202020611210.5
主分类号 :
F26B11/04
IPC分类号 :
F26B11/04  F26B25/02  F26B25/10  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F26
干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B11/00
对无渐进运动的材料或制品进行干燥的机器或设备
F26B11/02
在运动的滚筒或其他大部分封闭容器内
F26B11/04
围绕水平轴或微斜轴旋转的
法律状态
2021-01-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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