一种用于基坑围护的加护结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于基坑围护的加护结构，连接于竖向支护构件上部并位于土体一侧，包括竖墙，所述竖墙连接于竖向支护构件的顶部，所述竖墙的顶端高于土体上表面，所述竖墙一侧面贴合土体侧面设置。本实用新型具有减小土体坠入基坑内概率的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种用于基坑围护的加护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020620599.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-22
授权号 ：
CN212223898U
授权日 ：
2020-12-25
发明人 ：
何玉珍
申请人 ：
浙江久豪建筑勘测设计有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市拱墅区耀江大厦B座6B室-1
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020620599.X
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-12-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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