一种四线暗挖隧道进洞端径向小导管注浆结构
授权
摘要
本实用新型涉及隧道开挖技术领域，具体是一种四线暗挖隧道进洞端径向小导管注浆结构，包括一号隧道、二号隧道、三号隧道和四号隧道，暗挖顺序为一号隧道、三号隧道、二号隧道和四号隧道，两两隧道之间留有一定间距，且一号隧道的左侧以及三号隧道的左右两侧土体加设有径向小导管。本实用新型在隧道开挖时采用径向小导管进行注浆加固，增加土体稳定性，保证施工安全，同时提高隧道开挖的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种四线暗挖隧道进洞端径向小导管注浆结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020634358.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN212508337U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
王松孟昭晖王建郭水杨建辉李柏青黄明利张斌张峥李建伟
申请人 ：
北京市政建设集团有限责任公司
申请人地址 ：
北京市西城区南礼士路17号
代理机构 ：
北京壹川鸣知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
贾彦虹
优先权 ：
CN202020634358.0
主分类号 ：
E21D11/10
IPC分类号 ：
E21D11/10 E21D9/00
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D11/00
隧道、平硐或其他地下洞室，例如，地下大型硐室的衬砌；其衬砌物；现场制衬砌物，例如，通过组装
E21D11/04
用建筑材料衬砌
E21D11/10
用混凝土现场浇注；为此所用的模板或其他设备
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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