一种CMP后清洗设备的液体传输管路
授权
摘要
本实用新型涉及一种CMP后清洗设备的液体传输管路,包括:供液装置,供液装置的出液口一端连接有进液管,且进液管的末端呈倒“L”型;进液管的尾端下方设有腔体,供液装置通过进液管将液体输送至腔体内;在进液管的前部设有回吸阀和过滤器;在过滤器上还连通有排液组件,用于将过滤器内部残留的液体排出;排液组件包括排液管,在排液管上设有压力监测器;排液管上位于压力监测器的一侧还设有排水阀,排水阀由反馈系统控制,本实用新型在进液管中增设了回吸阀,利用回吸阀将进液管中残留的药液进行回流吸收,同时利用反馈系统和压力监测器监控过滤器内的压力,从而实时控制排水阀的开启,保证过滤器中的药液及时排出,确保不会有药液对硅片造成腐蚀。
基本信息
专利标题 :
一种CMP后清洗设备的液体传输管路
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020645757.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-24
授权号 :
CN212319415U
授权日 :
2021-01-08
发明人 :
余涛唐杰朴灵绪张霞郭巍
申请人 :
若名芯半导体科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区4栋101室
代理机构 :
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱斌兵
优先权 :
CN202020645757.7
主分类号 :
F17D1/08
IPC分类号 :
F17D1/08 F17D3/01 F17D3/16 H01L21/67
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统;管路
F17D
管道系统;管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/08
用于液体或黏性物质的
法律状态
2021-01-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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