一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构

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摘要

本实用新型涉及基坑施工结构技术领域，具体来说是一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构，在待施工的基坑与临近桩基之间设有凹槽，凹槽内设有压力水囊，压力水囊具有三层结构，由内至外依次为内层、抗拉中层和弹性外层，所述的内层由具有气密性和水密性的材料制成。本实用新型同现有技术相比，其优点在于：密集城区进行基坑施工情况下，通过凹槽和压力水囊的设置能有效减少基坑降水导致邻近桩基中产生的负摩阻力，同时能有效减少基坑施工引起的周围土体水平位移对邻近桩基的影响，通过对压力水囊充放水能施加压力或者减少压力，以减弱基坑施工过程中产生的土体水平位移，从而可大幅度减少基坑开挖对周边建筑的影响，降低施工成本，提高施工效率。

基本信息

专利标题：

一种减少基坑施工对临近桩基影响的结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020662674.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-27

授权号：

CN212506438U

授权日：

2021-02-09

发明人：

白向臣钱琨王力玮刘习生穆保岗韩峰彭宇一

申请人：

中铁上海工程局集团华海工程有限公司;无锡地铁集团有限公司

申请人地址：

上海市闵行区中春路7500号

代理机构：

上海三方专利事务所(普通合伙)

代理人：

吴玮

优先权：

CN202020662674.9

主分类号：

E02D31/00

IPC分类号：

E02D31/00