一种避免产品附着的立式化工反应釜，包括反应釜壳体、泄压管、电机和清理刷，所述反应釜壳体的右侧上方开设有进料口，所述反应釜壳体的右侧顶部设置有水气管，所述泄压管的内部设置有橡胶球，且橡胶球的下方连接有弹簧，所述电机设置在反应釜壳体的顶部上方，所述转轴的外侧包裹有固定轮，所述限位环与固定轮之间设置有活动轮，所述转盘的下方连接有导套，且导套的设置在转轴的外侧，所述导套的右侧连接有支撑杆。该避免产品附着的立式化工反应釜，能够调节该反应釜的内部压强，方便反应釜的使用，且能够使得搅拌叶和清理刷的转速不同，方便对该反应釜的内壁进行清理，避免产品吸附在内壁上。