一种钼表面阻氧膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种钼表面阻氧膜，包括钼基体，钼基体表面镀有阻氧膜层，阻氧膜层依次为铬层、第一氮化铬铝硅层、铝层、第二氮化铬铝硅层，阻氧膜层的底层为铬层，阻氧膜层的顶层为第二氮化铬铝硅层。钼表面经处理后，不仅可以耐650℃以上高温，而且具有优良的润滑性能，极大改善了钼工件的使用环境，其硬度可达1800HV以上，阻氧膜层厚度1～3μm，薄而均匀、光亮细洁，保留钼原有尺寸，不影响钼使用尺寸，提高了钼耐高温、抗氧化性。
基本信息
专利标题 ：
一种钼表面阻氧膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020687058.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212404263U
授权日 ：
2021-01-26
发明人 ：
唐军利
申请人 ：
金堆城钼业股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区锦业一路88号
代理机构 ：
西安弘理专利事务所
代理人 ：
弓长
优先权 ：
CN202020687058.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/16 C23C14/06 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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