一种碲真空蒸馏除杂装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种碲真空蒸馏除杂装置,包括:真空系统、电控系统及用于除去碲块或碲粉中杂质的真空炉,真空炉包括加热装置、金属坩埚及非金属的蒸馏冷凝装置,加热装置设置于金属坩埚的外部,蒸馏冷凝装置设置于金属坩埚的内部,蒸馏冷凝装置包括底部的蒸馏部及设置于蒸馏部上方的冷凝部,蒸馏部与冷凝部之间设有用于回流杂质的阻流塔盘,阻流塔盘上设有第一开孔,冷凝部与真空系统气连通,加热装置由下向上加热温度逐渐降低,真空系统及加热装置均与电控系统信号连接。除杂得到碲的纯度高、单炉处理能力强,处理周期短,提升了产品质量,并且处理碲的蒸馏冷凝装置为非金属制成,防止碲对蒸馏冷凝装置进行腐蚀,提高了装置的寿命。
基本信息
专利标题 :
一种碲真空蒸馏除杂装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020690497.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-29
授权号 :
CN211998825U
授权日 :
2020-11-24
发明人 :
刘永清王义郭伟强易锡平蒋德忠李正强
申请人 :
湖南金马冶金技术开发有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市雨花区晓光路48号综合楼
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
孔祥贵
优先权 :
CN202020690497.5
主分类号 :
C01B19/02
IPC分类号 :
C01B19/02
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B19/00
硒;碲;其化合物
C01B19/02
元素硒或碲
法律状态
2020-11-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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