一种制剂车间配液及在线清洗系统
专利权的终止
摘要
本实用新型是一种制剂车间配液及在线清洗系统。所述系统包括:管控平台、工控机、PLC、打印机、HMI、温度传感器、压力传感器、电导率传感器、阀门、变频器、泵及搅拌机和仪表。本实用新型采用人性化的管控平台作为人机交互界面,可对生产过程中多项参数进行自定义设定,从而对不同生产工艺要求进行最优化控制,实现了生产过程的全自动控制,提高劳动生产率。通过管控平台高自由度参数修改,使控制效果更加快捷、稳定。通过管控平台高自由度参数修改,使控制效果更加快捷、稳定。
基本信息
专利标题 :
一种制剂车间配液及在线清洗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020694734.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-29
授权号 :
CN211786729U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
李方双李长武魏莹钱冠华李德生肖东昌佟桂冬赵明高雪冰李月
申请人 :
黑龙江省自动化系统工程有限公司
申请人地址 :
黑龙江省哈尔滨市香坊区汉水路165号
代理机构 :
哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司
代理人 :
刘景祥
优先权 :
CN202020694734.5
主分类号 :
G05B19/05
IPC分类号 :
G05B19/05
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/04
除数字控制外的程序控制,即顺序控制器或逻辑控制器
G05B19/05
可编程序逻辑控制器,例如根据梯形图或功能图模拟信号的逻辑互联
法律状态
2022-04-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G05B 19/05
申请日 : 20200429
授权公告日 : 20201027
终止日期 : 20210429
申请日 : 20200429
授权公告日 : 20201027
终止日期 : 20210429
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211786729U.PDF
PDF下载