高精度分布式水冷温控装置
授权
摘要
本实用新型公开了高精度分布式水冷温控装置，包括温控水箱、第一水管、第二水管、出水泵、分水集水箱和多个冷却组件；冷却组件包括第三水管、第四水管和冷却水套；温控水箱内设置有空压机和加热器；第一水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；第二水管连通于温控水箱和分水集水箱之间；本实用新型提出的高精度分布式水冷温控装置保证了各冷却水套对于光刻设备的降温均匀性和一致性；同时，通过调节加热器和空压机，能够对冷却水的温度实现精准控制调节，也保证了光刻机对冷却降温时的温度的准确性的要求；此外，由于采用循环水冷的方式，相比传统风冷，更能满足光刻机对冷却降温方式的洁净度和平稳性的要求。
基本信息
专利标题 ：
高精度分布式水冷温控装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020718641.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-06
授权号 ：
CN211786815U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
秦硕梁良杨志华
申请人 ：
长沙航空职业技术学院
申请人地址 ：
湖南省长沙市雨花区跳马镇田心桥
代理机构 ：
长沙智勤知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曾芳琴
优先权 ：
CN202020718641.1
主分类号 ：
G05D23/24
IPC分类号 ：
G05D23/24 G05D23/19 G05B11/42 G05B13/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D23/00
温度的控制
G05D23/19
以使用电装置为特征的
G05D23/20
具有随温度变化而产生电或磁性质变化的传感元件
G05D23/24
传感元件具有随温度变化的电阻，例如热敏电阻
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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