一种高强度抗压型下盖结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种高强度抗压型下盖结构，包括下盖壳体，所述下盖壳体呈弧形设置，所述下盖壳体的上端设有弧形腔以及位于弧形腔两侧的侧端腔，所述下盖壳体的上端侧边设有边沿，所述侧端腔的两端设有贯穿孔，所述弧形腔的四个拐角处设有内部呈通孔设置的筒柱，所述弧形腔左右两侧设有加强件，所述加强件包括加强筋和U型加强座，所述U型加强座的两端与弧形腔的前后两侧壁连接。本实用新型加强件可提高对下盖壳体的结构支撑以及结构加强的作用；同时，通过下盖壳体呈弧形设置、下盖壳体的上端侧边设有边沿、下盖壳体与边沿为一体成型设置，这样有利于提高该下盖结构的强度。
基本信息
专利标题 ：
一种高强度抗压型下盖结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020738730.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-08
授权号 ：
CN212244490U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
钱承伟
申请人 ：
苏州工业园区宏图精密科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区唯亭镇春辉路5号跨春工业坊1#B幢
代理机构 ：
昆明合众智信知识产权事务所
代理人 ：
邓黎
优先权 ：
CN202020738730.2
主分类号 ：
B65D41/32
IPC分类号 ：
B65D41/32 B65D41/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B65
输送；包装；贮存；搬运薄的或细丝状材料
B65D
用于物件或物料贮存或运输的容器，如袋、桶、瓶子、箱盒、罐头、纸板箱、板条箱、圆桶、罐、槽、料仓、运输容器；所用的附件、封口或配件；包装元件；包装件
B65D41/00
帽，例如顶盖，或隆起密封件，即具有与颈部或确定倾注口的壁或出料口的外圆周接合部分的元件；用于封口件的保护性帽状盖，例如金属箔或纸的装饰性盖
B65D41/32
带有刻痕线、撕裂条带、签条或类似的开启或拆开装置，例如便于形成倾注口的帽或帽状盖
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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