本实用新型涉及电容器技术领域，且公开了一种铝电解电容器含浸装置，包括底座，所述底座的下方固定安装有支柱，所述支柱的下方顶端固定安装有固定器，所述固定器的下方转动连接有滚轮，所述底座上方中心位置固定安装有机体，所述机体与底座通过支撑腿固定连接，所述支撑腿和底座通过第二固定板固定连接。该种铝电解电容器含浸装置，气缸向下移动带动机盖在滑杆的杆体上滑动连接，从而带动机盖向下移动到机体的上方，并对机体进行密封，在含浸操作时，需要对含浸装置内部进行真空处理，因此机盖会受到较大压力，由于机盖的左右两侧固定安装有气缸支撑，因此不会出现受力不均的情况发生，从而能够有效避免铰接的部件受到损坏的情况发生。