一种气液两相单介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置
专利权的终止
摘要
本实用新型提供了一种气液两相单介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置，包括底座；导向柱；水槽；上极板部件，包括支承板、拉杆、弹簧、螺杆、上电极、上介质板、固定旋钮；圆塞规；下极板部件，包括支架、可更换支承块、下电极、网状板。本实用新型中的可更换支承块可实现调节下电极没入液相深度；网状板可有效承载材料，且能实现避免液面波动与爬升；圆塞规的设置可有效提高放电区域的平行度。
基本信息
专利标题 ：
一种气液两相单介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020749334.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-06
授权号 ：
CN211671043U
授权日 ：
2020-10-13
发明人 ：
郭星辰孔祥茹刘建慧张燕王日鑫李朋倡马志鹏
申请人 ：
河南理工大学
申请人地址 ：
河南省焦作市高新区世纪大道2001号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020749334.X
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24
法律状态
2022-04-12 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H05H 1/24
申请日 : 20200506
授权公告日 : 20201013
终止日期 : 20210506
申请日 : 20200506
授权公告日 : 20201013
终止日期 : 20210506
2020-10-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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