一种利用气体特定气流方式实现的离子室

授权

摘要

本申请涉及一种利用气体特定气流方式实现的离子室，包括进气管、出气管、离子室本体、放电针极、收集极、隔离套、收集筒和射源环；隔离套置于离子室本体的空腔内；收集筒套设在隔离套内，收集筒的底部与隔离套的底部连通；进气管和出气管均穿过离子室本体；进气管与环形腔连通，出气管与隔离套的空腔连通；放电针极和收集极均安装在离子室本体的顶部；放电针极穿过离子室本体的顶部，并延伸至收集筒内；收集极穿过离子室本体的顶部，抵接收集筒的顶部翻边；射源环围绕离子室本体的腔体内壁设置；射源环中的放射源为镅(Am‑241)。其有效提高了放射源的灵敏度，不仅可以满足氢冷机组的绝缘过热监测，还能够满足空冷机组的绝缘过热监测。

基本信息

专利标题：

一种利用气体特定气流方式实现的离子室

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020763497.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-09

授权号：

CN212321793U

授权日：

2021-01-08

发明人：

余正雄陆新原康璟哲陶炜

申请人：

北京华科兴盛电力工程技术有限公司

申请人地址：

北京市昌平区科技园区超前路5号产业基地A座518室

代理机构：

北京市鼎立东审知识产权代理有限公司

代理人：

朱慧娟

优先权：

CN202020763497.3

主分类号：

G01R31/34

IPC分类号：

G01R31/34 G01K11/30