本实用新型公开了立式吸附器及气体纯化吸附系统。其中，立式吸附器包括壳体、气体分布器、吸附剂层和设在壳体外表面的保温层，气体分布器设在壳体内且位于壳体上表面和下表面之间，气体分布器包括邻近壳体上表面布置的第一气体分布器和邻近壳体下表面布置的第二气体分布器；第一气体分布器和第二气体分布器之间设有至少两层吸附剂层，相邻两层吸附剂层之间分别独立地设有气体再分布器，每层吸附剂层的上表面/下表面与气体分布器/气体再分布器之间形成有中空夹层。该吸附器结构简单且容易设计制造，吸附效率高且吸附效果好，多个立式吸附器耦合连用可实现多晶硅生产过程中循环氢气的连续纯化并得到能够满足多晶硅生产要求的高纯氢气。