一种原位阻隔结构、阻隔系统及排液系统
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摘要
本实用新型涉及防渗工程技术领域,特别是一种原位阻隔结构、阻隔系统及排液系统,其中原位阻隔结构包括均位于既有待处理物外侧的第一侧墙和第二侧墙,第一侧墙的下部与第二侧墙的下部密封连接,第一侧墙和/或第二侧墙倾斜设置,第一侧墙和/或第二侧墙包括防渗层,防渗层包括施工孔,防渗层被配置为:所述防渗层为通过向施工孔内灌注的或高压旋喷的防渗浆液,形成层状结构体。本申请的一种原位阻隔结构,在不挠动待处理物的前提下,能有效隔绝防渗层内外物质的交换,特别是液相物质的交换,第一侧墙和/或第二侧墙起到阻止外界水进入既有待处理物内部,以及阻止既有待处理物内的液相物质向第一侧墙和/或第二侧墙外扩散的目的。
基本信息
专利标题 :
一种原位阻隔结构、阻隔系统及排液系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020818600.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-15
授权号 :
CN212248388U
授权日 :
2020-12-29
发明人 :
谷亮
申请人 :
谷亮
申请人地址 :
四川省成都市温江区柳城南熏大道四段188号4栋1单元4楼8号
代理机构 :
四川力久律师事务所
代理人 :
王波
优先权 :
CN202020818600.X
主分类号 :
E02D31/00
IPC分类号 :
E02D31/00
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D31/00
基础或基础结构的保护装置;保护土壤或下层土中水的地基措施,例如,防止或消除油的污染
法律状态
2020-12-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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