一种1.5微米被动调Q激光器
授权
摘要
本实用新型公开了一种1.5微米被动调Q激光器，包括多个工作周期、工作占空比均相同的泵浦源和设置在多个泵浦源出光侧的一个谐振腔；多个泵浦源，用于在一个工作周期内，以固定时间间隔依次发射泵浦光；泵浦源的脉宽与固定时间间隔相等；谐振腔，利用多个泵浦光泵浦谐振腔内激光晶体，得到多束从激光晶体不同位置出射的1.5微米激光，每束激光在谐振腔内多次反射后出射，得到连续脉冲激光。本实用新型的1.5微米被动调Q激光器，克服了传统1.5微米被动调Q激光器在高峰值功率、斩波泵浦条件下输出的激光脉冲不连续的缺点，能够使激光器在斩波泵浦工作条件下，输出的激光脉冲在时间域上连续，本实用新型能够有效地扩展1.5微米被动调Q激光器的应用范围。
基本信息
专利标题 ：
一种1.5微米被动调Q激光器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020839723.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-19
授权号 ：
CN211981131U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
廖文斌陈雨金张戈黄艺东李丙轩林炎富
申请人 ：
中国科学院福建物质结构研究所
申请人地址 ：
福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号
代理机构 ：
北京元周律知识产权代理有限公司
代理人 ：
史冬梅
优先权 ：
CN202020839723.1
主分类号 ：
H01S3/11
IPC分类号 ：
H01S3/11 H01S3/091
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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