一种反应条件可控的CVD反应腔装置
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摘要
本实用新型涉及CVD反应腔装置技术领域，尤其涉及一种反应条件可控的CVD反应腔装置，解决现有技术中存在的缺点，包括底座和顶板，所述底座的顶部分别通过螺栓固定有支脚和侧板，所述支脚的顶部固定连接有反应腔，所述反应腔的底部滑动设置有顶杆，顶杆的顶部通过螺栓固定连接有安装板，通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、刻度表、顶杆等结构的设置，针对不同的沉积材料，可以利用伺服电机来带动升降块移动，经连杆机构带动顶杆推动来改变加热器与样片之间的距离，从而可对加热时间和温度高低进行选取调控，进而确保样片在最佳的反应加热时间内完成沉积处理，提升了沉积的质量，具有较强的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种反应条件可控的CVD反应腔装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020849814.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN212451630U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
朱双林李春敏马国忠胡人文王恩强黄道平沈伟
申请人 ：
苏州索科特新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市张浦镇欣合路6号1幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020849814.3
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/46 C23C16/455
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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