光学镜片镀膜治具
授权
摘要
本实用新型涉及一种光学镜片镀膜治具，包括基板(1)以及分别与所述基板(1)可拆卸地连接的第一盖板(2)、第二盖板(3)和第三盖板(4)；所述基板(1)上具有多个镜片容置孔(101)；所述第一盖板(2)上具有与所述镜片容置孔(101)相对应的第一通孔(201)；所述第二盖板(3)上具有与所述镜片容置孔(101)相对应的第二通孔(301)；所述第三盖板(4)上具有与所述镜片容置孔(101)相对应的第三通孔(401)。根据本实用新型的方案，解决了在实际镀制过程中，由于是采用真空蒸发镀膜，对镀膜产生遮挡，容易引起镀膜不良的问题。
基本信息
专利标题 ：
光学镜片镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020853768.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN212293731U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
蒯泽文朱亚蒙袁银潮刘超阮高梁
申请人 ：
浙江舜宇光学有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市舜宇路66-68号
代理机构 ：
北京谨诚君睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
陆鑫
优先权 ：
CN202020853768.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04 G02B1/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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