一种激光氧气分析气室

授权

摘要

本实用新型公开了一种激光氧气分析气室，包括激光器发射端支座、激光器发射端固定板、第一双凸聚焦镜支座、第二双凸聚焦镜支座，激光氧气室、激光接收端支座、激光接收端以及激光接收端固定板，所述激光器发射端固定板、激光器发射端支座、激光氧气室以及激光接收端从左至右依次设置，所述激光器发射端支座的上面安装有第一发射端氮气进气接头和第二发射端氮气出气接头，所述激光器发射端固定板远离激光器发射端支座的一侧安装有元器件氧气激光器，激光氧气室上通入需要测量的氧气样气，从而完成样气的测量，产品维护上维护简易，维护周期长，光路结构简单，调光容易，可现场标定验证，不受现场安装条件的限制。

基本信息

专利标题：

一种激光氧气分析气室

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020865575.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-21

授权号：

CN212207078U

授权日：

2020-12-22

发明人：

刘飞蒋泰毅蔡磊乐聪林

申请人：

武汉晟诺仪器科技有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖新技术开发区佛祖岭三路28号高新二期（新厂一期）建设项目质检研发工艺和电子装配楼101#建筑A区4楼

代理机构：

北京盛凡智荣知识产权代理有限公司

代理人：

张塨

优先权：

CN202020865575.0

主分类号：

G01N21/27

IPC分类号：

G01N21/27 G01N21/01