本实用新型公开了一种化妆品生产用原料清洗装置，包括水池，水池顶部外壁一侧固定有支撑板，且支撑板一侧外壁靠近顶部的位置固定有液压机，所述液压机一侧外壁固定有液压杆，且液压杆一端固定有固定块，所述固定块底部外壁设置有伸缩杆，且伸缩杆一端固定有连接块，所述连接块一侧外壁固定有清洗箱，所述水池顶部外壁两端靠近右侧的位置均固定有支撑柱，且支撑柱顶部外壁固定有顶板，所述顶板底部外壁固定有鼓风机，且鼓风机底部外壁设置有导风管，所述导风管一端设置有出风口。本实用新型利用超声波对原料表面进行完全清洗，并且在清洗完成后对原料表面进行风干，避免原料变质，同时设置喷头双重清洗原料，确保原料被清洗干净。