相干阵列光束相位误差检测装置及相干合成锁相系统
授权
摘要
本实用新型提出了相干阵列光束相位误差检测装置及相干合成锁相系统。相干阵列光束相位误差检测装置包括基板、立方分束器、立方合束器和偏振光电探测器。立方合束器呈N×M阵列排布在安装基板上，立方分束器排布在立方合束器阵列的一侧，与立方合束器阵列形成N×(M+1)阵列。参考光通过立方分束器后与相干阵列光束在立方合束器处进行偏振相干合成，实现阵列光束与参考光的相位误差检测。将该装置应用到相干合成系统中，对阵列光束分束后的小部分光进行处理后，获得相位误差传输给信号处理器，生成误差补偿信号，反馈给各光束的相位调制器，进行活塞像差校正，实现相干合成。本实用新型可有效提升相干合成系统的光束数量，解决控制带宽受限的难题。
基本信息
专利标题 ：
相干阵列光束相位误差检测装置及相干合成锁相系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020905479.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-26
授权号 ：
CN211978137U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
马阎星马鹏飞粟荣涛吴坚姜曼周朴司磊许晓军陈金宝
申请人 ：
中国人民解放军国防科技大学
申请人地址 ：
湖南省长沙市开福区德雅路109号
代理机构 ：
长沙国科天河知识产权代理有限公司
代理人 ：
邱轶
优先权 ：
CN202020905479.4
主分类号 ：
G01J9/02
IPC分类号 ：
G01J9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J9/00
测量光学相位差；测定相干性的程度；测量光学波长
G01J9/02
采用干涉法
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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