氡、钍射气子体采样器
授权
摘要
本实用新型提供的一种氡、钍射气子体采样器，包括采样空间；沿着采样空间内自一端至另一端依次设置有沉积采样滤膜、采样扩散腔、铝过滤膜以及CR39固体核径迹探测元件；且铝过滤膜包括四个厚度不同的过滤膜，分别为第一通道TI、第二通道TII、第三通道TIII和本底通道；第一通道TI、第二通道TII、第三通道TIII和本底通道用于对目标射气子体释放的α粒子能量进行不同程度的衰减；沉积采样滤膜用于沉积阻留目标射气子体上，以保障目标射气子体释放的α粒子能够穿过铝过滤膜经过衰减进入CR39固体核径迹探测元件上；CR39固体核径迹探测元件用于接收经过衰减后的目标射气子体释放的α粒子在其表面形成积极响应。
基本信息
专利标题 ：
氡、钍射气子体采样器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020923619.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-27
授权号 ：
CN212206776U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
曹磊兰长林吴鹏王晓涛党磊方芳
申请人 ：
北京市化工职业病防治院;兰州大学;生态环境部核与辐射安全中心
申请人地址 ：
北京市海淀区香山一棵松50号
代理机构 ：
北京绘聚高科知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈卫
优先权 ：
CN202020923619.0
主分类号 ：
G01N1/22
IPC分类号 ：
G01N1/22
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/22
气体的
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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