消毒装置及口罩消毒系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种消毒装置及口罩消毒系统，涉及消毒机技术领域，包括：固定主体、紫外线灯和反应构件；通过紫外线灯向位于消毒腔室中的反应构件发射紫外线，紫外线照射消毒腔室中的空气产生臭氧，且反应构件在紫外线的照射下生成电子空穴对，电子空穴对与臭氧和水分子反应生成羟基自由基和超氧离子自由基，具有强氧化性的羟基自由基和超氧离子自由基能够穿透口罩外层的无纺布，对中间夹层的熔喷布进行充分消毒，缓解了现有技术中存在的紫外线消毒机只能对口罩的外表面进行消毒，无法对中间夹层的熔喷布进行消毒，消毒效果不佳的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
消毒装置及口罩消毒系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020925757.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-27
授权号 ：
CN212699740U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
杨青
申请人 ：
杨青
申请人地址 ：
北京市丰台区北大地三里十六号院八楼二单元202
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
赵薇
优先权 ：
CN202020925757.2
主分类号 ：
A61L2/10
IPC分类号 ：
A61L2/10 A61L2/14 A61L2/20 A61L2/26 A61L101/10
相关图片
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/08
辐照
A61L2/10
紫外线辐照
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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