电磁发射装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种电磁发射装置，电磁发射装置包括：发射轨道；发射线圈，包括一级线圈和二级线圈，一级线圈设置于发射轨道的端部，二级线圈设置于发射轨道的两侧；第一光电门，设置于发射轨道的两侧，第一光电门位于一级线圈和二级线圈之间；电容，包括第一电容和第二电容，第一电容与一级线圈串联，第二电容与二级线圈串联；动力元件，与电容并联，与开关串联，通过开关控制动力原件的开启和关闭。通过动力元件给电容加压供电，通过控制电容内部储存的能量释放来加速发射物，二级线圈位于发射轨道的两侧，实现对发射物的侧翼的加速，能够发射带侧翼的发射物，电磁发射相对与化学能发射发热较少，同时普遍采用线圈发射使得能量利用率高。
基本信息
专利标题 ：
电磁发射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020928492.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-28
授权号 ：
CN212512693U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
徐世峰王珩徐丹郑人仁王富帅邱鸿森刘硕孙景超
申请人 ：
沈阳航空航天大学
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈北新区道义南大街37号
代理机构 ：
沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
甄玉荃
优先权 ：
CN202020928492.1
主分类号 ：
F41B6/00
IPC分类号 ：
F41B6/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F41
武器
F41B
不用炸药或易燃推进装药的发射投射体用的武器；不包含在其他类目中的武器
F41B
不用炸药或易燃推进装药的发射投射体用的武器；不包含在其他类目中的武器
F41B6/00
电磁发射器
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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