电解抛光设备
授权
摘要
本申请实施例公开了一种电解抛光设备，该设备电解效率高，特别适于试样的局部电解抛光。为此，本申请实施例提供的电解抛光设备，包括电解液储存室和电源，所述电解液储存室的底部设有与待抛光试样的待抛光面连通的通孔，所述冲刷管的一端插入所述电解液储存室中并对准所述通孔，另一端与压力电解液源连通，所述电源的正极和负极分别与所述待抛光试样和所述电解液储存室内的负极棒连接。
基本信息
专利标题 ：
电解抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020938066.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-28
授权号 ：
CN212270274U
授权日 ：
2021-01-01
发明人 ：
袁武华张枫黄镇马雪鹤傅强
申请人 ：
湖南大学
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
代理机构 ：
长沙市融智专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
谢浪
优先权 ：
CN202020938066.6
主分类号 ：
C25F7/00
IPC分类号 ：
C25F7/00 C25F3/16
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F7/00
从物体上电解除去材料用电解槽的构件，或其组合件；维护或操作
法律状态
2021-01-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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