成像镜头、相机模块及电子装置
授权
摘要
一种成像镜头、相机模块及电子装置，成像镜头包含第一光学元件与低反射层。第一光学元件具有中心开孔，且包含第一表面、第二表面及第一外径面。第一外径面连接第一表面与第二表面。低反射层位于第一表面与第二表面中至少其中一者之上，且包含碳黑层、纳米微结构及镀膜层。碳黑层与第一表面与第二表面中至少其中一者实体接触且连接。纳米微结构与碳黑层实体接触并连接，并较碳黑层远离第一光学元件。镀膜层与纳米微结构实体接触且连接，并较纳米微结构远离第一光学元件。借此，提升成像品质。
基本信息
专利标题 ：
成像镜头、相机模块及电子装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020940321.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN212255765U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
蔡温祐苏恒毅周明达张建邦朱国强
申请人 ：
大立光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台中市南屯区精科路11号
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202020940321.0
主分类号 ：
G02B1/113
IPC分类号 ：
G02B1/113 G02B1/115 G02B13/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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