一种用于去污泡沫稳定性测量的试验装置
授权
摘要
本实用新型提供一种用于去污泡沫稳定性测量的试验装置，包括发泡柱、刻度尺、发泡柱底盘、纳米曝光盘、气体入口、气体控制阀、气体流量计、液体入口、液体控制阀、高清摄像机、放空阀以及放空口；上述试验装置可以同时实现对泡沫半衰期、持液半衰期和泡沫结构粒径的测量；操作简单，准确性高，所用阀门、流量计等均可手动控制，通过发泡柱外侧刻度尺、高清摄像机等可完成实时测量；结果直观，便于观察；本发明装置中发泡柱采用有机玻璃材质，对于生成的泡沫高度、泡沫液高度等可直接观察。
基本信息
专利标题 ：
一种用于去污泡沫稳定性测量的试验装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020977929.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-02
授权号 ：
CN212808072U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
邓少刚梁宇郭丽潇梁栋王永仙高志婷郭奇武明亮张文俊张宇航高亚华
申请人 ：
中国辐射防护研究院
申请人地址 ：
山西省太原市小店区学府街102号
代理机构 ：
北京天悦专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
田明
优先权 ：
CN202020977929.0
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84 G01N15/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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