一种新型板式PECVD出料腔充气缓冲装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种新型板式PECVD出料腔充气缓冲装置，包括出料腔、进气孔和充气缓冲装置，所述进气孔形成于出料腔内底部，所述充气缓冲装置遮盖于进气孔上，所述充气缓冲装置呈中空腔体状，所述进气孔与充气缓冲装置中空腔体导通；在所述充气缓冲装置上形成有出气孔，所述出气孔气流方向斜向上或正向上。本实用新型气流经充气缓冲装置弥散和强度缓和，不会带起底部粉尘，从而大大降低电池片污染机率和后续电池不良率。
基本信息
专利标题 ：
一种新型板式PECVD出料腔充气缓冲装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020979136.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-02
授权号 ：
CN213266696U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
钱孟蒲天尹鸣
申请人 ：
梅耶博格光电设备（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区古北路1699号1304、1305-1室
代理机构 ：
南京中高专利代理有限公司
代理人 ：
袁兴隆
优先权 ：
CN202020979136.2
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/50 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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