一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统,其包括透光面罩,透光面罩的上端设置有第一屏蔽层,透光面罩的下端设置有第二屏蔽层;第一屏蔽层的下表面设置有双曲面反射镜;第二屏蔽层上设置有用于放置成像器的存放腔,存放腔的上端设置有可调镜头;存放腔的下端设置有斜向的线缆通道。本实用新型通过第一屏蔽层屏蔽来自正上方的辐射,通过第二屏蔽层屏蔽来自前后左右和下方的辐射,可以有效将环境辐射与成像器进行隔离,避免成像器受辐射影响。同时本实用新型通过双曲面反射镜将四周环境反射至成像器中,使得本系统可以获取360°的图像,保证了开阔的全局视野,提高了成像效率。
基本信息
专利标题 :
一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021008775.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-04
授权号 :
CN212463313U
授权日 :
2021-02-02
发明人 :
田凤莲张静刘满禄张华王姮张敦凤刘冉霍建文
申请人 :
西南科技大学
申请人地址 :
四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号
代理机构 :
成都正华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李蕊
优先权 :
CN202021008775.0
主分类号 :
H04N5/225
IPC分类号 :
H04N5/225 G02B17/08
法律状态
2022-05-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H04N 5/225
申请日 : 20200604
授权公告日 : 20210202
终止日期 : 20210604
申请日 : 20200604
授权公告日 : 20210202
终止日期 : 20210604
2021-02-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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