本实用新型公开了一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其包括透光面罩，透光面罩的上端设置有第一屏蔽层，透光面罩的下端设置有第二屏蔽层；第一屏蔽层的下表面设置有双曲面反射镜；第二屏蔽层上设置有用于放置成像器的存放腔，存放腔的上端设置有可调镜头；存放腔的下端设置有斜向的线缆通道。本实用新型通过第一屏蔽层屏蔽来自正上方的辐射，通过第二屏蔽层屏蔽来自前后左右和下方的辐射，可以有效将环境辐射与成像器进行隔离，避免成像器受辐射影响。同时本实用新型通过双曲面反射镜将四周环境反射至成像器中，使得本系统可以获取360°的图像，保证了开阔的全局视野，提高了成像效率。