本申请实施例提供的均质器按压清洗装置，包括基座、定位柱、导位槽、导位珠、按压套筒，当通过人工或者自动控制装置使得所述按压套筒沿着竖直方向向下运动时，所述第一导位珠在水平方向的位置不变，所述旋转架在竖直方向的位置不变。又因为所述第一导位珠和所述按压套筒相对固定，因此所述旋转架会在所述导位珠的带动下转动。所述旋转架可以设置有清洗组件，所述清洗组件随着所述旋转架旋转从而可以清洗位于所述旋转架上方的待清洗物。所述待清洗物可以为均质器刀头。因此通过控制所述按压套筒在竖直方向移动即可以使得旋转架快速清洗均质器刀头，无需人工清洗，大大提高了工作效率。