强制积露的纳米水离子发生的装置
授权
摘要
本实用新型公开一种强制积露的纳米水离子发生的装置，冷气流动力组件固定安装于固定安装板之上，杆底座固定安装于冷气流动力组件的顶部，杆主体的下端垂直固定于杆底座之上，杆主体的上端粘接有水质覆盖层，第一电极的电极主干的外端固定于外壳的内壁的上部，第二电极的电极主干的外端固定于外壳的内壁的上部，杆主体的顶部位于第一电极的电极头与第二电极的电极头之间且位于第一电极的下方，外壳正对杆主体处开设有第二进风口。本实用新型使电荷转移直接发生在水质覆盖层与第一、第二电极之间，提高了水分子的电离效果；第一、第二电极对强制气流的阻隔效果较小，能更快的补充水质覆盖层电离时所消耗的水质，从而达到稳定长效的工作状态。
基本信息
专利标题 ：
强制积露的纳米水离子发生的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021033772.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-08
授权号 ：
CN211879781U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
邱庆彬其他发明人请求不公开姓名
申请人 ：
平流层复合水离子（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区高新南一道002号飞亚达科技大厦1712E
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021033772.2
主分类号 ：
H01T23/00
IPC分类号 ：
H01T23/00
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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