一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系

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摘要

本实用新型属于地下工程领域，具体涉及一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系，包括迁改后箱涵、地下通道和局部盖挖支护结构，所述迁改后箱涵的正下方与所述地下通道相交处施做有局部盖挖支护结构，所述局部盖挖支护结构内具有沿所述地下通道长度方向延伸的盖挖预留通道，所述地下通道从所述盖挖预留通道中穿过。本实用新型先施工局部盖挖支护结构，为后期施工地下通道提供盖挖条件，再将原箱涵迁改至设计位置，后期施工地下通道时，可不再从地面明挖，直接对迁改后箱涵下方的局部盖挖支护结构内的盖挖预留通道中的土方进行水平开挖，在盖挖预留通道内施工地下通道，使地下通道下穿迁改后箱涵，能够实现大型箱涵一次永久改迁，造价低，工期短。

基本信息

专利标题：

一种地下通道下穿迁改后箱涵的结构体系

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021046114.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-09

授权号：

CN212452767U

授权日：

2021-02-02

发明人：

李志敏雷崇曹文轩余行高福华雷铎尹进赵静静

申请人：

中铁第四勘察设计院集团有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号

代理机构：

北京汇泽知识产权代理有限公司

代理人：

吴静

优先权：

CN202021046114.7

主分类号：

E02D29/045

IPC分类号：

E02D29/045