一种电学层析成像两相流测量系统
授权
摘要
本实用新型提出了一种电学层析成像两相流测量系统，通过在电学层析成像两相流测量系统中设置参考点测量装置，实时测量两相流媒质中稀相液体媒质的特征值，为电阻层析成像两相流测量系统提供参考依据，通过判断ERT传感器测量段内处于敏感场中物体的电导率分布，实时抵消参考点测量媒质的稀相液体电导率特征，得出两相媒质的分布状况，各相体积占比；为电容层析成像两相流测量系统提供参考依据，通过判断ECT传感器测量段内处于敏感场中物体的电容分布，实时抵消参考点测量媒质的稀相液体电容特征，得出两相媒质的分布状况，各相体积占比。
基本信息
专利标题 ：
一种电学层析成像两相流测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021047970.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-09
授权号 ：
CN212568581U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
王仕辅杜君梅李日新张红漫张海龙王磊孙超徐青青马星驰吴友铿章建军
申请人 ：
长江武汉航道工程局;武汉绿林系统科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江岸区沿江大道140号
代理机构 ：
武汉红观专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李季
优先权 ：
CN202021047970.4
主分类号 ：
G01N27/07
IPC分类号 ：
G01N27/07 G01N27/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N27/00
用电、电化学或磁的方法测试或分析材料
G01N27/02
通过测试阻抗
G01N27/04
通过测试电阻
G01N27/06
液体的电阻
G01N27/07
所用测量容器及电极的构造
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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