一种自清洗UV消毒设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种自清洗UV消毒设备。包括管道式反应器，内部设反应腔，反应腔的长度方向两端分别设进水、出水口；反应腔的侧壁上安装有清洗振板，清洗振板的外侧面上安装有超声波发生器以在反应腔内产生微小气泡对固体表面冲刷清洗；UV消毒灯组可拆卸式安装在所述反应腔内，包括保持架以及周向间隔设置在保持架上的UV灯管；紫外线传感器用于检测反应腔内的紫外线强度，液位检测传感器用于检测反应腔内液位；控制器分别与紫外线传感器、液位检测传感器控制连接以检测反应腔内的紫外线强度和水量，分别控制各个UV灯管的启闭，以据水量和紫外线强度调整启动的UV灯管的数量。具有自清洗、自调节，消毒效率高、消毒效果好、清理维护方便的特点。
基本信息
专利标题 ：
一种自清洗UV消毒设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021063905.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-11
授权号 ：
CN212450745U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
王来文邹俊慧张仁清
申请人 ：
无锡诚源环境科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市梁溪区江海西路会西段87
代理机构 ：
上海塔科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
耿恩华
优先权 ：
CN202021063905.0
主分类号 ：
C02F1/32
IPC分类号 ：
C02F1/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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