一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，包括底座、外壳、第一支撑板和第二支撑板，所述底座的顶端面焊接有第一支撑板和第二支撑板，且第一支撑板和第二支撑板背离底座的一端焊接有顶板,所述外壳通过第二转轴转动安装在第二支撑板上，所述外壳内转动安装有第一转轴，且第一转轴上嵌入固定有搅拌杆，所述外壳的顶端面嵌入固定有进料管，且进料管上转动安装有第二盖板，第二盖板通过第二卡箍限位固定在进料管上，所述外壳的底端面嵌入固定有出料管，出料管上转动安装有第一盖板，且第一盖板通过第一卡箍限位固定在出料管上。本实用新型具备操作便捷，密闭性更佳和实用性更佳的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021081901.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-12
授权号 ：
CN212819752U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
罗晴
申请人 ：
厦门大学
申请人地址 ：
福建省厦门市思明区思明南路422号
代理机构 ：
安化县梅山专利事务所
代理人 ：
潘访华
优先权 ：
CN202021081901.5
主分类号 ：
B01J3/03
IPC分类号 ：
B01J3/03 C23C14/35
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J3/00
利用低于或高于大气压力使物质发生化学或物理变化的方法；其有关设备
B01J3/03
带有专用的封闭结构或密封的压力容器或真空容器
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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