一种可成型无光轴偏移保护贴
授权
摘要
本实用新型提供了一种可成型无光轴偏移保护贴，涉及保护贴领域，主要用于屏下指纹解锁的电子产品上，其包括从下到上依次贴合的高粘压敏胶层、具备可成型无光轴偏移特征的TPUT层以及高柔韧高耐磨的防指纹层。所述高粘压敏胶层的下面贴合有离型膜，所述防指纹层的上面贴合有保护膜；本实用新型提供的一种可成型无光轴偏移保护贴，通过防指纹层、TPUT层和高粘压敏胶层的配合，具有无光轴偏移可成型以及高表面性能的特点，能够适配屏下指纹解锁的电子产品，使用很方便。
基本信息
专利标题 ：
一种可成型无光轴偏移保护贴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021109258.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-16
授权号 ：
CN213357414U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
姚维波董红星
申请人 ：
宁波惠之星新材料科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市江北区慈城镇庆丰路988号4幢
代理机构 ：
余姚德盛专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
戚秋鹏
优先权 ：
CN202021109258.2
主分类号 ：
C09J7/10
IPC分类号 ：
C09J7/10 C09J7/38 C09J183/04 C09D175/08 C09D5/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J7/00
薄膜或薄片状的粘合剂
C09J7/10
没有载体
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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