EB双层辐照系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种EB双层辐照系统，包括放卷单元、EB辐照单元、收卷单元，还包括：对基材两侧面分别进行涂布或印刷处理的第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元；以及将涂布或印刷后的基材两面分别引导至EB辐照单元进行双面辐照的传导单元。本实用新型提供一种EB双层辐照系统，通过对辐照系统的整体布局设置，使得放卷输出的基材能通过第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元与传导单元的配合，将基材两面分别涂布或印刷相应的油墨、涂料、胶黏剂中的任意一种，再通过EB辐照单元对基材两面分别进行辐照，进而实现一套设备可同时完成基材两面的涂布或印刷以及辐照，降低了设备投入，减小了设备的体积。

基本信息

专利标题：

EB双层辐照系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021130967.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-17

授权号：

CN212889420U

授权日：

2021-04-06

发明人：

贾朝伟李琦曾利罗德坤刘帅

申请人：

四川智研科技有限公司

申请人地址：

四川省绵阳市科创区创业服务中心二期1号楼342号

代理机构：

北京远大卓悦知识产权代理有限公司

代理人：

蒋海燕

优先权：

CN202021130967.9

主分类号：

B41F23/04

IPC分类号：

B41F23/04 B41F13/02 B41F13/10 B05C9/04 B05C9/12 B05C1/08 B05C13/02 B05D3/06 B05D3/04 B65H20/02 B65H23/26 A61L2/08