一种光源反光占牌
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摘要

本实用新型提供一种光源反光占牌,包括占牌本体,占牌本体左右两侧表面对称设有第一反光层和第二反光层,第一反光层和第二反光层的水平中心轴线与设于占牌本体中空方形内的棱镜水平中心轴线对准,占牌本体上侧表面设有第三反光层,第三反光层的竖直中心轴线与棱镜竖直中心轴线对准,占牌本体下侧边中间固定有支持柱,支持柱下端连接有基座,基座上设有适于照射第一反光层和第三反光层的第一发射光源,以及适于照射第二反光层和第三反光层的第二发射光源,第一发射光源和第二发射光源关于棱镜竖直中心轴线对称设置。本申请通过发射光源照射占牌本体上的反光层来增强反光作用,以用于光线不好的地方快速找到棱镜,提升恶劣环境测量的适应性。

基本信息
专利标题 :
一种光源反光占牌
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021144205.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN212030540U
授权日 :
2020-11-27
发明人 :
李俊峰周静魏强
申请人 :
睿宇时空科技(重庆)有限公司
申请人地址 :
重庆市南川区西城街道办事处隆化大道12号(总商会大厦)1幢2-7-3
代理机构 :
重庆信航知识产权代理有限公司
代理人 :
穆祥维
优先权 :
CN202021144205.4
主分类号 :
G01C15/00
IPC分类号 :
G01C15/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01C
测量距离、水准或者方位;勘测;导航;陀螺仪;摄影测量学或视频测量学
G01C15/00
不包括在G01C1/00至G01C13/00各组的测量器械或部件
法律状态
2020-11-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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