一种满堂支撑架高处步距测量系统
授权
摘要
本实用新型涉及房建施工领域，旨在解决现有技术中满堂支撑架高处步距测量困难且存在安全隐患的问题，提供一种满堂支撑架高处步距测量系统，其包括测距仪、水准泡、调平台和两个反光片；所述反光片上连接有卡箍，用以连接于支撑架横杆，并使反光片朝下；所述水准泡设置于测距仪上，并能够指示所述测距仪是否水平；所述调平台包括平台板和连接于平台板下的可调支脚，用于将平台板调节水平。本实用新型的有益效果是测量方便快捷且安全性高。
基本信息
专利标题 ：
一种满堂支撑架高处步距测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021163507.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
CN212030463U
授权日 ：
2020-11-27
发明人 ：
范东岭张庆兵姚平廖昌龙
申请人 ：
中国五冶集团有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市锦江区五冶路9号
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
管高峰
优先权 ：
CN202021163507.6
主分类号 ：
G01B11/14
IPC分类号 ：
G01B11/14 G01C9/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/14
用于计量相隔的物体或孔的间距或间隙
法律状态
2020-11-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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