一种模拟低本底实验室的模块化屏蔽装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种模拟低本底实验室的模块化屏蔽装置，包括相互衔接的顶屏蔽装置、中屏蔽装置和底屏蔽装置，所述顶屏蔽装置包括支撑骨架以及安装在支撑骨架内的顶屏蔽模块；所述中屏蔽装置包括支撑骨架，安装在支撑骨架内的中屏蔽模块以及控制中屏蔽模块压紧、放松的压紧装置；所述底屏蔽装置包括支撑骨架，安装在支撑骨架内的底屏蔽模块以及控制底屏蔽模块压紧、放松的压紧装置。该模块化屏蔽装置能够在现场模拟不同屏蔽材料及不同屏蔽厚度的屏蔽效果，从而为低本底实验室的优化设计提供一定的数据支撑，从而使低本底实验室的优化设计更加可靠，建造成本与建造难度更低。
基本信息
专利标题 ：
一种模拟低本底实验室的模块化屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021164959.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
CN213781610U
授权日 ：
2021-07-23
发明人 ：
温毅罗晓渭郭朝选张铻康文凯李龙李哲宇王霞
申请人 ：
中国辐射防护研究院
申请人地址 ：
山西省太原市小店区学府街102号
代理机构 ：
北京天悦专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
田明
优先权 ：
CN202021164959.6
主分类号 ：
G21F7/00
IPC分类号 ：
G21F7/00 G21F1/08 G21F3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F7/00
加防护的小室或房间
法律状态
2021-07-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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