金属靶盘、阳极靶盘以及X射线管

授权

摘要

本申请公开了一种金属靶盘、阳极靶盘以及X射线管。其中金属靶盘(10)，包括：相对于金属靶盘(10)的轴线倾斜设置的靶面(110)，用于接受电子束轰击并产生X射线；与靶面(110)邻接的正表面(120)；以及与正表面(120)相对设置的背表面(130)，还包括：配重槽(140)，配重槽(140)围绕金属靶盘的轴线设置；以及配重块(150)，配重块(150)设置于配重槽(140)内，并且能够在配重槽(140)内移动。

基本信息

专利标题：

金属靶盘、阳极靶盘以及X射线管

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021169674.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-22

授权号：

CN212411995U

授权日：

2021-01-26

发明人：

杨小明

申请人：

北京智束科技有限公司

申请人地址：

北京市大兴区中关村科技园大兴生物医药产业基华佗路50号院12号楼1层103室

代理机构：

北京万思博知识产权代理有限公司

代理人：

刘冀

优先权：

CN202021169674.1

主分类号：

H01J35/10

IPC分类号：

H01J35/10 H01J35/26