应用于口罩生产的无纺布结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于口罩生产的无纺布结构，包括无纺布层、涂布液层、透明保护层和用于形成图案的印刷层，涂布液层设置于无纺布层表面，印刷层印刷在涂布液层上，透明保护层设置于印刷层上，印刷层位于涂布液层和透明保护层之间，涂布液层包括PVA涂布液。本实用新型，所生产出的无纺布结构适用于口罩生产，基于PVA涂布夜预先设置于无纺布层表面，再将用于形成图案的印刷层设置于PVA涂布夜上，最后透明保护层设置于印刷层上。PVA涂布夜能够填补纤维间的间隙，使印刷层不会轻易漏墨；基于透明保护层设置，能够对于印刷层进行保护，避免触摸对于图案完整度、干净度的影响。
基本信息
专利标题 ：
应用于口罩生产的无纺布结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021195246.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN211558921U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
李新
申请人 ：
深圳市博泰数码智能技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道新和同富裕工业区八栋1-2层东
代理机构 ：
深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙)
代理人 ：
胡吉科
优先权 ：
CN202021195246.6
主分类号 ：
A41D31/02
IPC分类号 ：
A41D31/02 A41D31/04 A41D13/11 D06N3/04 D06N3/00
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A41
服装
A41D
外衣；防护服；衣饰配件
A41D31/02
?层料 ）
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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