清洗溶剂二级真空蒸馏装置
授权
摘要
本实用新型公开了清洗溶剂二级真空蒸馏装置，包括一级蒸馏釜，所述一级蒸馏釜的一侧设置有二级蒸馏釜，且两个蒸馏釜之间连通，所述一级蒸馏釜和二级蒸馏釜的外槽均连通有入水管，且一级蒸馏釜的底端连通有入液管，所述一级蒸馏釜的内部设置有LL61，所述二级蒸馏釜的内部由上至下依次设置有LL62和L62。本实用新型中，一级蒸馏釜蒸汽供给真空干燥槽，可设置较低温度以防止清洗液内的油污蒸发，造成工件二次污染；二级蒸馏釜蒸汽不供给真空干燥槽；可设置较高的加热温度使清洗液尽可能完全蒸发，排液不会带出过多的清洗液。
基本信息
专利标题 ：
清洗溶剂二级真空蒸馏装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021214290.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN213159441U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
苏日庆
申请人 ：
深圳市安科创科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区福城街道观澜观光路1522号鸿天福工业园2栋一楼
代理机构 ：
深圳德永专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟容
优先权 ：
CN202021214290.7
主分类号 ：
B01D3/02
IPC分类号 ：
B01D3/02 B01D3/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D3/00
蒸馏或相关的在液体同气体介质相接触的过程中发生交换的方法，例如汽提
B01D3/02
在蒸馏锅或蒸馏釜中
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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