一种用于基坑区域支撑的满堂支撑体系
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于基坑区域支撑的满堂支撑体系，其由第一满堂架体、第二满堂架体、泵机、排水管道组成，其中，第一满堂架体和第二满堂架体分别架设于第一硬化混泥土底板、第二硬化混泥土底板上，泵机设于第一满堂架体和第二满堂架体之间，排水管道由进水端到排水端依次固定于第一满堂架体和第二满堂架体上且与相应的泵机连接；第一满堂架体和第二满堂架体均为钢管扣件式满堂架体；第一满堂架体和第二满堂架分别与相邻的支护桩钢梁刚性连接；此外，在排水管道的进水端下设工字钢回顶，工字钢与进水端的排水管道的外周面焊接固定。该体系能对排水管道进行可靠地、稳定地支撑，且能避免排水管道下沉。
基本信息
专利标题 ：
一种用于基坑区域支撑的满堂支撑体系
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021267570.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN213358625U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
邓华强袁内蒙郭洪友冯杉殷绍辉郭毅胡毅李志强
申请人 ：
中国建筑一局（集团）有限公司
申请人地址 ：
北京市丰台区西四环南路52号
代理机构 ：
成都华复知识产权代理有限公司
代理人 ：
庞启成
优先权 ：
CN202021267570.4
主分类号 ：
E02D17/02
IPC分类号 ：
E02D17/02 E02D19/06 E02D19/10
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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