纵向抗滑明洞结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种纵向抗滑明洞结构,包括明洞衬砌及明洞拱墙外的砼回填体,在明洞衬砌前端设洞门结构,在该砼回填的两侧与边坡岩土相接触的位置设有锚网喷支护,在明洞仰拱衬砌底部设有抗滑键;还包括为确保施工安全设置的临时抗滑桩,该临时抗滑桩位于明洞后端明暗分界位置处。本实用新型通过抗滑桩的设置有效避免了大开挖,大大减少了开挖及坡面防护工程数量,有效地节约了资源并减少了对生态环境的破坏。同时,砼回填体和锚网喷支护可有效利用其自重及其与边坡岩土之间的摩擦力抵抗滑动土体下滑力,在抗滑明洞保护下进行隧道暗洞施工,可有效确保隧道施工期间滑坡稳定性,进而有效确保了仰坡滑坡隧道施工及运营安全。

基本信息
专利标题 :
纵向抗滑明洞结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021270533.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-01
授权号 :
CN212614738U
授权日 :
2021-02-26
发明人 :
旷文涛朱小兵杨昌宇杨翔于茂春曹林卫刘保林张万斌李鸿胥犇徐昆杰吴伟李爽姜波汪伟松裴昌进孟令天
申请人 :
中铁二院重庆勘察设计研究院有限责任公司
申请人地址 :
重庆市两江新区昆仑大道46号
代理机构 :
重庆双马智翔专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
方洪
优先权 :
CN202021270533.9
主分类号 :
E21D9/14
IPC分类号 :
E21D9/14  E02D17/20  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进;采矿
E21D
竖井;隧道;平硐;地下室
E21D9/00
衬砌或不衬砌的隧道或平硐;其掘进的方法或设备;隧道、平硐的设计布置
E21D9/14
隧道或平硐的设计布置;其他类目不包括的隧道或平硐的结构特征,例如,洞口、隧道口的日光减弱
法律状态
2021-02-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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