一种坡度放样装置
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摘要

本实用新型公开了一种坡度放样装置,包括底座、下转台、支座、上转台和水准仪主体,所述底座用于连接支架;下转台通过第一中心转轴与底座相连,下转台可相对底座转动;所述支座的底部通过用于调整支座角度的调节机构安装于下转台上,支座的上部通过第二中心转轴与上转台相连,上转台可相对支座转动;水准仪主体均安装于上转台上,水准仪主体的红点激光发射器安装于水准仪主体的顶部,水准仪主体的前后端各设望远镜,且望远镜视线与红点激光发射器的激光发射方向平行。本实用新型的有益效果为:所述坡度放样装置与传统测量装置相比,省略了计算设计标高这一过程,提高了待测点的放样精度;结构简单,设计合理,可靠性高、制造成本低廉。

基本信息
专利标题 :
一种坡度放样装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021283709.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-03
授权号 :
CN212512990U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
向威郭云鹏王鹏罗骏胡鑫张兵黄婧刘伟奎左贤高松莲吴艳艳
申请人 :
武汉市市政建设集团有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市经济技术开发区春晓路6号
代理机构 :
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 :
周舒蒙
优先权 :
CN202021283709.4
主分类号 :
G01C5/00
IPC分类号 :
G01C5/00  G01C15/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01C
测量距离、水准或者方位;勘测;导航;陀螺仪;摄影测量学或视频测量学
G01C5/00
高程测量;横向视距测量;分开点间的水准测量;水准仪
法律状态
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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