一种组合式现场足迹勘察罩
授权
摘要

本实用新型公开一种组合式现场足迹勘察罩,包括勘察罩本体,所述勘察罩本体包括箱罩、卡板、卡套和箱盖,所述箱罩的外边侧卡有侧板,所述侧板上安装有合页,所述侧板上粘接有铁片,所述箱罩上粘接有磁铁,所述侧板的内侧设置有透光板,所述卡套的内侧卡有内环,所述内环的顶部一体成型有平板,能够有效的提高足迹影像的反差效果、提高拍摄的足迹纹线清晰,保障检验的条件,在不需要将足迹移动到暗室的状况下对足迹进行拍摄提取,能够在下雨时将足迹保护起来,避免雨水通过箱罩的四周流入足迹的内侧,保障足迹的安全和提足工作,能够避免拍摄设备因掉落而砸到足迹上,保护足迹的安全,适用于对平面灰尘加层足迹的提取使用。

基本信息
专利标题 :
一种组合式现场足迹勘察罩
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021286518.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-03
授权号 :
CN212112082U
授权日 :
2020-12-08
发明人 :
张黎金涛
申请人 :
张黎;金涛
申请人地址 :
重庆市九龙坡区文化七村35号1单元6-1
代理机构 :
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 :
吴彩凤
优先权 :
CN202021286518.3
主分类号 :
G03B15/06
IPC分类号 :
G03B15/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备;利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备;以及有关的附件
G03B15/00
摄影的特殊操作;所用的设备
G03B15/02
场面照明
G03B15/06
屏蔽、散射或反射装置的特殊结构,例如,在摄影室的
法律状态
2020-12-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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