一种上胶均匀的底膜上胶设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种上胶均匀的底膜上胶设备，它包括机架，机架上连接有胶槽，胶槽内设置有转动连接在机架上的上胶辊；上胶辊的上方设置有转动连接在机架上的输送辊，输送辊的一侧设置有上下分布的进料辊和出料辊；所述机架上对应上胶辊的一侧设置有连接架，连接架的两端和机架之间均连接有伸缩气缸；所述连接架上固定有刮胶板，刮胶板与上胶辊平行设置；连接架上沿着上胶辊的轴向设置有多个推杆，推杆与连接架螺纹连接，推杆的一端与刮胶板接触设置。本实用新型不仅能够提高上胶匀度，还具有上胶量控制较方便、设备使用寿命较长、操作较方便和维护较方便的优点。

基本信息

专利标题：

一种上胶均匀的底膜上胶设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021307598.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-07

授权号：

CN212681508U

授权日：

2021-03-12

发明人：

占文革

申请人：

浙江广印通新材料科技有限公司

申请人地址：

浙江省金华市浦江县仙华街道宏业大道717号

代理机构：

金华大器专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

吴添添

优先权：

CN202021307598.6

主分类号：

B05C1/08

IPC分类号：

B05C1/08 B05C11/10